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當前位置: 首頁 ? Cases ? Er:YAG 晶體案例(一)—— 用于2940nm激光器

Er:YAG 晶體案例(一)—— 用于2940nm激光器

  • 產(chǎn)品名稱:50% Er:YAG
  • 產(chǎn)品尺寸:φ5*100mm/φ5*130mm/φ6*100mm
  • 膜系:S1:AR@2940nm R<0.2% ; S2:AR@2940nm R<0.2%

產(chǎn)品規(guī)格

產(chǎn)品名稱 規(guī)格
50% Er:YAG φ5*100mm
50% Er:YAG φ5*100mm
50% Er:YAG φ5*130mm
50% Er:YAG φ6*100mm

加工要求

摻雜濃度:50%

兩端面為平面

光潔度:10/5

面型:λ/8

鍍膜要求

S1:AR@2940nm R<0.2% ; S2:AR@2940nm R<0.2%

鍍膜面一定要保持干凈,無損傷

質(zhì)檢報告

檢驗項目 參數(shù)標準及公差 數(shù)量/pcs OK NG
垂直度 5′ 20 20 0
光潔度 20-10 20 19 1
平面度 λ/8 20 20 0
波前畸變 λ/8 20 20 0
通光孔徑 100% 20 20 0
倒角 0.2 20 20 0
Chip 0.2 20 19 1

鍍膜測試曲線

AOI@0°
AOI@0°

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